設備用途
GKI-21磁(ci)控(kong)濺(jian)射鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)用(yong)于納米級(ji)單層及多(duo)層功能(neng)膜(mo)(mo)、硬質(zhi)膜(mo)(mo)、金屬膜(mo)(mo)、半(ban)導(dao)體(ti)膜(mo)(mo)、介質(zhi)膜(mo)(mo)等(deng)新型薄(bo)膜(mo)(mo)材(cai)料(liao)的(de)制備。可廣泛應用(yong)于大專院(yuan)校、科研(yan)院(yuan)所的(de)薄(bo)膜(mo)(mo)材(cai)料(liao)的(de)科研(yan)與小批量制備。
設備(bei)組成(cheng)
系統主要(yao)由濺(jian)射(she)真空(kong)室(shi)、永(yong)磁(ci)磁(ci)控(kong)濺(jian)射(she)靶(三個靶)、單基片加(jia)熱臺、直(zhi)流電源(yuan)、射(she)頻電源(yuan)、工作氣路(lu)、抽氣系統、真空(kong)測量、電控(kong)系統及安裝機(ji)臺等部(bu)分組成(cheng)。
技術資料:技術資(zi)料包含產品說明書(shu)、電鏡(jing)圖、成分表、材質單、粒(li)度分析報告(gao)、技術方案、工藝流程(cheng)、技術指標(biao)、檢測報告(gao)等,請您聯系銷(xiao)售(shou)工程(cheng)師獲(huo)取。
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